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最新公告:《ISO恒温恒湿实验室验收标准》 《ISO恒温恒湿实验室要达到ISO187-90 23℃±1℃ 50±2% RH GB10739-89、ISO139-73、GB6529-86 20℃±1℃ 65±2% RH标准》 验收条件: 温度:18℃-40℃ ±1℃ 湿度:35%-90%RH ±2% Rh 温度 湿度 1.稳定后10min均值差。 t±1.0℃ U±2.0 2.某一点任一个30min周期内大波动值 t≤1.0℃ U≤2.0%RH. 3.任意两点在任一瞬间的测量差值 t≤0.5℃ U≤2.0%RH. 4. 同一点24h任两个30min周期内波动值 t≤0.5℃ U≤1%RH. 5. 新鲜空气补充量 0.5m3/人min 6. 室内空气循环次数 15次/h以上,30/h次以下
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我国集成电路产业:前景光明 挑战艰巨(中)

作者:宝元通 来源:网络 时间:2012/8/29 8:39:41

  我国集成电路产业:前景光明 挑战艰巨(中)

二是产业规模、国际市场份额、技术水平等方面都有了巨大提高。企业数量与规模、行业总规模与从业人员数量、产销规模等快速增长。集成电路产业销售总额从2000年的186.2亿元增长到2011年的1572.2亿元,增长了8.4倍;在国际市场的份额从2000年1.2%上升到了2011年的8.7%。特别是集成电路设计业发展成就最为突出,销售额由2000年的11亿元增长到了2011年的473.74亿元,增长了43倍,单个芯片的设计水平从2000年每个芯片内含250万门级、2500万个左右晶体管数量提高到了目前的近亿门级、内含数亿个晶体管数量的新水平。2000年初以来,新建成了20多条8英寸到12英寸集成电路芯片生产线,吸引国内外半导体公司前来投资建厂,为集成电路人才的培养和成长提供全方位、多层次的发展支撑。以中芯国际为代表的一批芯片制造企业相继发展起来并成功上市,芯片制造生产线的技术水平也从2000年初的8英寸、0.25微米提高到了目前的12英寸、45纳米新水平,并正在向12英寸32纳米和22纳米以下技术阶段迈进。

三是取得了一大批创新和应用成果,为国民经济发展作出了巨大贡献。新成果覆盖集成电路设计、芯片制造、封装、半导体专用设备、仪器、关键原材料和众多的集成电路应用领域,在半导体产业链各个领域都有不俗的高水平创新成就涌现,不仅有二代身份证芯片、3G手机核心芯片、数字高清电视芯片等高技术产品,也有国产CPU及其在北斗导航卫星、千万亿次计算机、高性能网络服务器和新一代通信设备等中的应用;在集成电路制造所需要的关键设备和关键材料方面,如12英寸65纳米步进光刻机、高密度等离子体多晶硅刻蚀机、大角度倾斜大剂量离子注入机、12英寸硅抛光片、8英寸及12英寸硅外延片、锗硅外延片、SOI材料、宽禁带化合物半导体材料、248纳米和193纳米光刻胶等方面也相继获得一大批高水平成果,这些成果直接应用在集成电路生产线上。这些成就增强了全产业的发展信心,激发了行业的创新活力,营造出前面所提到的全国范围内空前的发展集成电路产业的氛围,对国民经济发展做出了卓越贡献。

另外,在探索集成电路产业发展规律和促进产业快速发展方面,获得了多方面的巨大进步。在国际合作与往来、投融资环境建设与投资总额、吸引留学人员回国创业、集成电路产业研发项目确立和科技管理方式改进、政府支持集成电路发展的决策体制和机制等方面,都比十多年前有了重大进步与提高。



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